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技術文章
TECHNICAL ARTICLES氣氛管式爐主要的目的是在高溫燒結的情況通入某種特定氣體用于特殊熱處理，或者對熱處理的樣品進行保護防止氧化。市場上使用氣氛保護多以防止氧化為主。根據爐膛的不同，可以分為管式氣氛爐和箱式氣氛爐。其中，管式氣氛爐，根據溫度不同，低溫采用石英管高溫采用剛玉管為爐管，兩端配以法蘭密封；箱式氣氛爐，多為整體焊接箱體，內襯無機保溫材料，獨立爐門硅膠密封。氣氛保護爐上通常都會有以下裝置，進出氣管道，閥門，壓力顯示裝置，真空獲得裝置。操作方式：針對實驗室的使用要求，裝卸料采用間歇式手動裝、卸料...
旋轉管式爐在材料科學和地質學等研究領域有許多應用，適用于高溫下持續流動的顆粒狀或顆粒狀物料的熱處理。適合需要在空氣或惰性氣氛中處理的材料。在高溫下變粘的材料不適合。具體應用包括：礦石的氣態還原以及礦石和冶金爐渣的分析，合成：催化劑；油漆的顏料；油板巖的煅燒；陶瓷的稀土金屬摻雜。下面我們一起來看使用旋轉管式爐會遇到哪些常見的問題：1、可以處理多少材料？它可以是批量處理爐(TSO)或連續處理爐(TSR)。批次的容量在620到1740毫升的范圍內，而連續爐可以處理高達收集料斗進料容...
PECVD系統具有優良的電學性能、良好的襯底附著性以及臺階覆蓋性，正由于這些優點使其在超大規模集成電路、光電器件、MEMS等領域具有廣泛的應用。適用于室溫至1200℃條件下進行Si02、SiNx薄膜的沉積，同時可實現TEOS源沉積，Sic膜層沉積以及液態氣態源沉積其它材料，尤其適合干有機材料上高效保護層膜和特定溫度下無損傷鈍化膜的沉積。膜制備工藝在超大規模集成電路技術中有著非常廣泛的應用，按照其成膜方法可分為兩大類：物理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積(CVD)。等離子增強型...
氣壓燒結爐適用于那些在溫度升高時容易分解或常規燒結方法不能得到高密度的陶瓷或金屬材料。不像熱壓爐那樣對產品形狀有所限制，還可用于氮化硅、硅鋁氧氮陶瓷、碳化硅、高溫合金，硬質合金及常規的復合材料。非常適用于各種陶瓷及金屬材料的燒結工藝，尤其是對溫度升高后材料本身會分解及在常規方法燒結硬度達不到要求的材料。這種加工方法對于需要經過高溫擠壓形成的零件的外形沒有局限性，并且對于等靜壓加工也是不錯的選擇。主要應用：1、應用于那些不能通過普通燒結達到高致密性和特殊性能的材料，但需要要求較...
高溫管式爐主要供合金鋼制品、各種金屬機件正火、淬火、退火等熱處理之用，或金剛石等切割刀片進行高溫燒結用途。工件在高溫熱處理爐內進行加熱，不僅要考慮加熱速度，加熱溫度和加熱的均勻性，而且還要考慮加熱時間，目的是利用加熱時間保證工件組織的轉變和化學作用的完成。加熱時間的延長有利于改善工件加熱的溫度均勻性，減小溫度應力對工件的影響，但過度的延長加熱時間，不僅浪費能源，而且也會對工件的性能產生負面影響，引起工件的某些缺陷，如過熱、過度氧化等。加熱時間過短，則會造成加熱不均勻，使得變形...
真空熱壓爐是靶極材料、納米陶瓷材料、釹鐵硼材料等新型材料的理想設備，主要供大專院校、科研單位針對無機材料在真空（或保護氣氛）熱壓條件下進行燒結處理，以便獲得高致密度的產品。爐體部分：爐體為立式爐殼其內層為不銹鋼制成的園筒外層為碳鋼。兩層之間形成夾套可以通冷卻水將傳到爐殼上的熱量帶走，使爐壁溫度不超過60℃，其上下法蘭焊接為一個整體。中間開有紅外測溫孔（有保護氣氛通氣口），熱電偶測溫孔、抽氣孔及觀察孔，鉑銠熱電偶有到溫自動退出裝置，紅外測溫觀察孔有玻璃氣吹防霧裝置，操作人員使用...
多溫區管式爐包括雙溫區、三溫區、五溫區，每個溫區可以單獨控溫，主要適用于真空或保護氣氛中，多種溫度段下材料的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解、低溫沉積工藝，碳納米管及碳納米線的制備等。主要針對實驗室在真空或者保護氣氛下對樣品的熱處理，優質的爐膛材料和穩定的溫度控制系統，可保證實驗數據的可靠性。產品采用新型陶瓷纖維材料作為爐膛材料，選用質優的硅鉬棒發熱元件作為發熱體；爐管材質優良，爐管兩端不銹鋼法蘭密封，可在真空下工作，法蘭上有進氣口和出氣口，可通入保護氣體，不銹鋼法蘭快開設計，方便...
管式電爐采用可靠的集成化電路，工作環境好，抗干擾，最高溫度時爐體外殼溫度≤50℃大大提高了工作環境。廣泛用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、新材料開發、特種材料、建材等領域。工作原理：熱電偶將爐溫轉變成電壓信號后，加在微電腦溫度控制調節儀上。調節儀將此信號與程控設定相比較，輸出一個可調信號。再用可調信號控制觸發器，再有觸發器觸發調壓器，達到調節電爐電壓和電爐溫度的目的。安裝與使用：1、管式電爐不需特殊安裝，室內平整的地面或工作臺上均可安放。但配套的控制器應避免震...
當前位置：
