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CVD（Chemical Vapor Deposition, 化學(xué)氣相淀積）

CVD試驗(yàn)CVD（ChemicalVaporDeposition,化學(xué)氣相淀積），指把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)劑的蒸氣及反應(yīng)所需其它氣體引入反應(yīng)室，在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的過程。在超大規(guī)模集成電路中很多薄膜都是采用CVD方法制備。經(jīng)過CVD處理后，表面處理膜密著性約提高30%，防止高強(qiáng)力鋼的彎曲，拉伸等成形時(shí)產(chǎn)生的刮痕。CVD特點(diǎn)：淀積溫度低，薄膜成份易控，膜厚與淀積時(shí)間成正比，均勻性，重復(fù)性好，臺(tái)階覆蓋性優(yōu)良。

真空熱處理爐的節(jié)能技術(shù)

真空熱處理爐的節(jié)能技術(shù)空熱處理爐是一種先進(jìn)的熱處理設(shè)備可以進(jìn)行金屬材料和工件的真空加熱、淬火、回火、退火、滲碳、滲氮、加壓氣淬等各種熱處理，也可進(jìn)行粉未冶金燒結(jié)、航空航天工件釬焊等，真空熱處理過程能使被處理材料和工件性能顯著提高，材料得到充分利用。**因而，廣義上真空爐是一種明顯節(jié)省單位能的先進(jìn)的熱處理設(shè)備。選用適當(dāng)?shù)臓t爐室內(nèi)加熱元件和隔熱材料，對(duì)于減少爐子本身能耗、提高加熱效率是有重要意義的。加熱元件一般情況可采用鎳鉻合金或鐵鉻合金，工兒溫度要求1000℃以上時(shí)，應(yīng)采用鉬、...

感應(yīng)加熱技術(shù)的多種應(yīng)用

感應(yīng)加熱技術(shù)的多種應(yīng)用感應(yīng)加熱是利用電磁感應(yīng)的方法使被加熱的材料（即工件）的內(nèi)部產(chǎn)生電流，依靠這些渦流的能量達(dá)到加熱目的。感應(yīng)加熱系統(tǒng)的基本組成包括感應(yīng)線圈、交流電源和工件。根據(jù)加熱對(duì)象不同，可以把線圈制作成不同的外形。線圈和電源相連，電源為線圈提供交變電流，流過線圈的交變電流產(chǎn)生一個(gè)通過工件的交變磁場(chǎng)，該磁場(chǎng)使工件產(chǎn)生渦流來加熱。感應(yīng)加熱是伴隨著汽車工業(yè)和拖拉機(jī)工業(yè)的誕生而起步的。由于其具有加熱效率高、速度快、可控性好及易于實(shí)現(xiàn)機(jī)械化和自動(dòng)化等優(yōu)點(diǎn)。目前常用的zui有效的熱...